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第九十九章 艾特二号:艾(挨)达(打)

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导致的结果是,面对尚海微电子的扶持力度变弱,加受到国外65nm光刻机的冲击,无法盈利,导致人心惶惶,技术骨干流失了非常多,才导致了今天这个结果。

可以说,这是当时犯下的错误,一直在走,研发……外面允许入口……放弃研发……禁售……无奈研发的老路。

以至于现在华国高端光刻机都要依赖国外进口,EUV光刻机售价高达一亿欧元往。

而且,关键的是,例如EUV这种真正的尖端光刻机仍然被禁售。

芯片产业完全受制于别人,有时候想想气!

从这个数字看,能够清晰看到,华国与其他国家在光刻机的巨大差距,也能够明白为什么华国芯片技术,落后于的根本原因。

而之所以国内光刻机技术这么落后,其原因是多重的。

当时,国内尚海微电子达到90nm精度时,国际主**度不过65nm,可以说差距远远没有现在这么大。

现在,却有这么大的差距,根本原因是因为,一直在停滞不前。

为什么停滞不前?因为国外见华国快要碾来的时候,立刻开放了65nm光刻机对华国的销售。

张翟揉了揉太阳穴,光刻机最领先的东西,实际是设计思路。

A1给他找来的资料,足够完善,可以说,只有足够的人还有设备材料,假以时日,照着这份高达一个多G的资料,将这光刻机研究出来,不是什么复杂的事情。

“呼……”张翟长出了口气,从站着的姿势,变为坐着。

“现在几点?”

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第九十九章 艾特二号:艾(挨)达(打) (第1/3页)

光刻机与蚀刻机技术方面,华国一直是弱项。 wWw.

近年来,蚀刻机技术慢慢已经追赶来,虽然仍有些差距,但已经能够看到弯道超车的希望。

但是光刻机技术不同,华国最先进的光刻机生产厂商尚海微电子生产的光刻机精度是90nm,而现在国际主**度为14nm,如现在英特尔公司所使用的是波长193nm光刻机,所能够达到的精度极限是制作14nm制程的芯片。

而这,并不是最先进的光刻机。最先进的光刻机制造技术是荷兰ASML公司的EUV(极紫外)光刻机,利用它能够生产7nm甚至3nm制程的芯片。

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